| LOTE | EQUIPAMENTO | QUANTIDADE |
| 108 | PLXD11 - Sistema de fotolitografia para exposição de lâminas de semicondutores cobertas com polímeros fotossensível usando luz ultravioleta e máscaras (retículos) para a fabricação de circuitos integrados eletrônicos - Fabr: ASML Mod: PAS 5500/ 1100 (compra para spare parts, poucos operadores atualmente0. | 1 |
| 108 | PLXI30 - Sistema de fotolitografia para exposição de lâminas de semicondutores cobertas com polímeros fotossensível usando luz ultravioleta e máscaras (retículos) para a fabricação de circuitos integrados eletrônicos. - Fabr: ASML Mod: PAS 5500/400C | 1 |
| 108 | PLXM20 - Sistema de fotolitografia para exposição de lâminas de semicondutores cobertas com polímeros fotossensível usando luz ultravioleta e máscaras (retículos) para a fabricação de circuitos integrados eletrônicos. - Fabr: ASML Mod: PAS 5500/750F | 1 |
| 108 | PLXM21 - Sistema de fotolitografia para exposição de lâminas de semicondutores cobertas com polímeros fotossensível usando luz ultravioleta e máscaras (retículos) para a fabricação de circuitos integrados eletrônicos. - Fabr: ASML Mod: PAS 5500/700D | 1 |
| No estado em que se encontram. | ||