| LOTE | EQUIPAMENTO | QUANTIDADE |
| 109 | HTAN10 - Forno de recozimento de alta temperatura para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 HT ANNEAL | 1 |
| 109 | HTAN11 - Forno de recozimento de alta temperatura para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 HT ANNEAL | 1 |
| 109 | HTAN12 - Forno de recozimento de alta temperatura para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 HT ANNEAL | 1 |
| 109 | HTBP10 - Forno de recozimento BPSG para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 BLA | 1 |
| 109 | HTBP11 - Forno de recozimento BPSG para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 BLA | 1 |
| 109 | HTCU11 - Forno de recozimento de baixa temperatura para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8200 LTA | 1 |
| 109 | HTCU12 - Forno de recozimento de baixa temperatura para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8200 LTA | 1 |
| 109 | HTOX10 - Forno de oxidação térmica para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 WDO | 1 |
| 109 | HTOX11 - Forno de oxidação térmica para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 WDO | 1 |
| 109 | HTOX12 - Forno de oxidação térmica para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 WDO | 1 |
| 109 | HTPI10 - Forno de cura polyimida para fabricação de semicondutor - Fabr: SVG Mod: AVP-8000 PIC | 1 |
| No estado em que se encontram. | ||